Georgia Institute of Technology;
机译:基于低活化能的非化学放大光刻胶(n-CARs)的设计和开发,用于下一代EUV光刻
机译:随机缺陷产生对酸放大的量子效率和有效化学反应半径的影响,该化学反应使用极端紫外光刻技术进行化学放大的抗蚀剂工艺进行脱保护
机译:极紫外光刻中用于阴离子结合的化学放大抗蚀剂中酸生成的建模和模拟
机译:评估用于下一代光刻掩模的先进化学放大抗蚀剂
机译:探索基于溶出抑制剂的非化学放大抗蚀剂,用于193 nm光刻。
机译:电子烟暴露产生系统(Ecig-EGS)的开发和表征用于电子烟排放的物理化学和毒理学评估
机译:193nm光刻的“酸放大器”表征化学放大抗蚀剂。
机译:为下一代核反应堆系统分析和安全边界特征码开发先进的计算流体动力学技术。