新型光致微图蚀刻用抗蚀剂材料——化学放大系光刻胶

机译：化学放大系统3组分抗蚀剂的开发-通过促进裸露部分的溶解提高抗蚀剂的分辨率-

机译：基于杯[4]间苯二甲烯衍生物，交联剂和光致产酸剂的新型三组分光刻胶

机译：用于化学增幅光刻胶的非离子型光致产酸剂的评估

机译：用于化学增幅光刻胶的非离子型光致产酸剂：结构对光刻胶性能的影响

机译：纳米压印光刻胶的抗蚀剂和压印的孔膜的物理化学表面相互作用。

机译：金属辅助化学法制备硅纳米线的研究在n型c-Si中作为光阱材料蚀刻太阳能电池

机译：近期功能高性能材料的趋势。微线蚀刻POSI型电沉积抗蚀剂的研制。

机译：光化学挥发性聚硅烷：一种新型自发光深紫外线抗蚀剂

机译：具有优异图案轮廓形状，光致酸性生成物和抗蚀剂材料的新型磺酰二氮杂甲酰胺化合物，以及使用该抗蚀剂的材料

机译：新型亚磺酰基二恶烷化合物，包含该化合物的化学增幅型抗蚀剂的光酸发生剂，包含该化合物的化学增幅型抗蚀剂的以及使用该材料的图案形成方法

机译：用作光致抗蚀剂的光致反应性单体的氧杂化合物，其制备方法，包含相同的光致抗蚀剂的聚合物以及使用相同的光致抗蚀剂微粉的制备方法