公开/公告号CN1842741B
专利类型发明专利
公开/公告日2010-11-24
原文格式PDF
申请/专利权人 东京应化工业株式会社;
申请/专利号CN200480005670.7
申请日2004-12-03
分类号
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人朱丹
地址 日本神奈川县
入库时间 2022-08-23 09:05:32
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2010-11-24
授权
授权
2006-12-06
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-10-04
公开
公开
机译: 化学增强光致抗蚀剂组合物,光致抗蚀剂层状主体,光致抗蚀剂组合物的制造方法,光致抗蚀剂图案的制造方法和连接端子的制造方法
机译: 连接端子的制造方法以及厚膜抗蚀剂图案的厚膜化学放大正型光致抗蚀剂组合物,厚膜光致抗蚀剂层叠体的制造方法
机译: 连接端子的制造方法以及厚膜抗蚀剂图案的厚膜化学放大正型光致抗蚀剂组合物,厚膜光致抗蚀剂层叠体的制造方法