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Chemically amplified resist process for 0.25-um generation photomasks

机译：0.25um代光掩模的化学放大抗蚀剂工艺

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《Photomask and X-Ray Mask Technology III》|1996年|p.96-104|共9页
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作者
Mikio Katsumata; Sony Corp.; Kanagawa; Japan; Hiroichi Kawahira; Sony Corp.; Atsugi Kanagawa; Japan; Minoru Sugawara; Sony Corp.; Kanagawa; Japan; Satoru Nozawa; Sony Corp.; Atsugi-shi Kanagawa; Japan.;
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中图分类无线电电子学、电信技术;
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