Open Air Deposition of SiO2 Films by an Atmospheric Pressure Line-Shaped Plasma

著录项

• 来源
  《Plasma processes and polymers》 |2005年第5期|407-413|共7页
• 作者

  Xiaodong Zhu; Farzaneh Arefi-Khonsari; Camille Petit-Etienne; Michael Tatoulian;

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• 作者单位

  Laboratoire de Genie des ProcÉdÉs Plasmas et Traitements de Surfaces UniversitÉ Pierre et Marie Curie ENSCP 11 rue Pierre et Marie Curie 75005 Paris France Key Laboratory of Basic Plasma Physics Department of Modern Physics University of Science and Technology of China Chinese Academy of Sciences Hefei Anhui 230026 P.R. China;

  Laboratoire de Genie des ProcÉdÉs Plasmas et Traitements de Surfaces UniversitÉ Pierre et Marie Curie ENSCP 11 rue Pierre et Marie Curie 75005 Paris France;

  Laboratoire de Genie des ProcÉdÉs Plasmas et Traitements de Surfaces UniversitÉ Pierre et Marie Curie ENSCP 11 rue Pierre et Marie Curie 75005 Paris France;

  Laboratoire de Genie des ProcÉdÉs Plasmas et Traitements de Surfaces UniversitÉ Pierre et Marie Curie ENSCP 11 rue Pierre et Marie Curie 75005 Paris France;

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• 收录信息
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• 正文语种 eng
• 中图分类
• 关键词

  atmospheric pressure; filamentary discharges; hexamethyldisiloxane (HMDSO); plasma-assisted chemical vapor deposition (PACVD); silicon oxide;

  机译：大气压力;丝状放电;六甲基二硅氧烷（HMDSO）;等离子体辅助化学气相沉积（PACVD）;氧化硅;