机译:用于EUVL掩模中的封盖/缓冲液的Ru层的表征
Division of Materials Science and Engineering, Hanyang Univeristy, Seoul 133-791, Republic of Korea;
EUVL; mask; capping; buffer; ru; absorber stack;
机译:周围烃类物质在EUVL光学镜的Ru盖层中减少氧化的作用
机译:使用碱性溶液和有机溶剂的混合物除去EUV掩模的Ru覆盖层的EUV暴露的烃
机译:氧等离子体对极紫外掩模空白板Ru覆盖层化学成分和形貌的影响
机译:用于EUVL掩模图案化的Ru缓冲层的特性
机译:用于砷化铟和磷化铟器件的高电阻率和晶格失配的铟砷磷和铝铟砷磷缓冲层的金属有机气相外延生长和电学表征。
机译:具有Ru籽晶层的MEMS不可蒸发吸气薄膜的研制与表征
机译:氧等离子体对极紫外(EUV)掩模坯料Ru覆盖层化学组成和形貌的影响