首页> 外文期刊>IEEE Transactions on Electron Devices >Corrections to “Suppression of Drain-Induced Barrier Lowering in Silicon-on-Insulator MOSFETs Through Source/Drain Engineering for Low-Operating-Power System-on-Chip Applications”
【24h】

Corrections to “Suppression of Drain-Induced Barrier Lowering in Silicon-on-Insulator MOSFETs Through Source/Drain Engineering for Low-Operating-Power System-on-Chip Applications”

机译:对“通过低功率电源片上系统应用的源/漏工程抑制绝缘硅上MOSFET的漏极感应势垒降低的修正”

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