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黄国胜; 李艳秋; 张飞;
中国科学院电工研究所,北京,100080;
中国科学院研究生院,北京,100039;
离轴照明; ArF浸没式光刻; 仿真; PROLITH;
机译:偏振照明对45 nm节点ArF浸没光刻法中高NA成像的影响
机译:用于ArF浸没式光刻的光刻性能的全场分析
机译:分辨率增强技术对45 nm节点ArF浸没式光刻术像差灵敏度的影响
机译:吸收体厚度变化对ArF浸没式光刻成像性能的影响
机译:用于浸没式光刻的水性和有机液体的折射率和吸收率。
机译:在浸没式发酵下增强了抗链霉菌突变体的脂溶液的生产并在浸没后发酵
机译:偏振照明对45nm节点ArF浸没光刻法中高NA成像的影响
机译:倾斜轴部分浸没式螺旋桨在一系列轴偏航角上的性能,
机译:盐酸盐作为光生酸剂和光阻组合物,其组成适用于ARF准分子激光光刻,KRF准分子激光光刻和ARF浸没光刻
机译:ArF浸没式光刻化学放大正性抗蚀剂成分和构图工艺
机译:用于ArF浸没式光刻和图案形成工艺的化学放大正型抗蚀剂组合物
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