Sony Corporation, 4-14-1 Asahi-cho, Atsugi-shi, Kanagawa 243-0014, Japan;
mask topography; rigorous 3D mask simulation; 193 nm lithography; absorber thickness; polarization;
机译:偏振照明对45 nm节点ArF浸没光刻法中高NA成像的影响
机译:用于ArF浸没式光刻的光刻性能的全场分析
机译:ArF浸没光刻胶中的极化作用的影响
机译:吸收器厚度变化对ARF浸入光刻成像性能的影响
机译:用于浸没式光刻的水性和有机液体的折射率和吸收率。
机译:吸收层厚度缺陷密度和工作温度对MAPBI性能的影响
机译:偏振照明对45nm节点ArF浸没光刻法中高NA成像的影响
机译:aTR LEU燃料和可燃吸收剂中子学通过燃料肉厚度变化进行性能优化。