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孙海锋; 刘新宇; 海潮和; 徐秋霞; 吴德馨;
中国科学院微电子中心;
SOICMOS器件; 预非晶化硅化物; 锗;
机译:用于超薄膜SOI CMOS器件的先进的Ge预非晶化自对准硅化物技术
机译:用于超大规模集成应用的双离子注入钛硅化物和预非晶化注入钴硅化物的比较研究
机译:SiN侧壁工艺增加了浅p / sup + /扩展层中的寄生电阻,并且通过亚0.25- / spl mu / m pMOSFET的Ge预非晶化提高了寄生电阻
机译:0.18 / spl mu / m栅极长度CMOS技术的预非晶化钛硅化物工艺的集成问题研究
机译:非晶Si-Ge-B的物理性质及应用研究
机译:Ge2Sb2Te5相变存储材料中的压力诱导可逆非晶化和非晶-非晶过渡
机译:Ge预非晶化和Ti硅化作用在高掺杂Si:P上的接触电阻率为1.5×10-9Ω·cm2
机译:非晶Ge薄膜扫描激光晶化过程中相界动力学的测量
机译:利用预非晶化注入和第二隔离层的硅化物工艺
机译:使用预非晶化注入用金属硅化物形成半导体器件的方法
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