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雷红; 雒建斌; 屠锡富; 方亮;
上海大学纳米科学与技术研究中心;
清华大学摩擦学国家重点实验室;
深圳开发磁记录有限公司;
化学机械抛光(CMP); 硬盘基片; 亚纳米级粗糙度; CMP机理;
机译:由于计算机硬盘基板的抛光和镀覆而产生的残余应力和工件变形
机译:单晶金刚石(100)的亚纳米级抛光和纳米粒子的抛光过程中的化学行为
机译:计算机数控亚孔径非球面抛光微粗糙度评估
机译:碱式纳米浆料对计算机硬盘NiP基片的CMP研究
机译:研究确定性亚孔径抛光机的抛光算法和去除工艺。
机译:锥形束计算机层析成像技术研究印度亚人群永久性下颌切牙的根管形态
机译:CD-ROM上具有临床相关性的皮肤病理学一张CD-ROM上有PC和Macintosh计算机的文档。最低建议硬件配置:Windows,486或更高版本的IBM PC或兼容计算机,2 MB硬盘空间,8 MB RAM,SVGA监视器和Windows 3.1或更高版本; Macintosh,68040配备的计算机,至少2 MB可用硬盘空间,8 MB RAM和系统版本7.0或更高版本。伦敦莫斯比。价格:380美元国际标准书号07234 2527 2。
机译:使用五种保持架材料在几个载荷下在0.1纳米级下抛光mos2薄膜的滚珠轴承的摩擦力矩
机译:用于水分解的亚纳米级催化簇,使用亚纳米级催化剂簇进行水分解的方法
机译:用于硬盘基板抛光液组合物,以及抛光方法和使用该方法制造硬盘基板的方法
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