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用于计算机硬盘基片化学机械抛光的抛光液

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摘要

本发明公开了一种用于存储器硬盘的磁盘基片抛光的纳米SiO

1. 用于计算机硬盘基片化学机械抛光的抛光液 [P] . 中国专利： CN1858133A . 2006-11-08
2. 用于计算机硬盘基片无磨粒抛光液组合物 [P] . 中国专利： CN103666282A . 2014-03-26
3. Polishing liquid for components, preferably wafers, process for producing polishing liquid and process for chemical mechanical polishing of components [P] . 美国专利： US2001027798A1 . 2001-10-11

机译：用于部件，优选晶片的抛光液，用于生产抛光液的方法以及用于部件的化学机械抛光的方法
4. Copper chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a copper layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad [P] . 美国专利： US6276996B1 . 2001-08-21

机译：使用固定研磨垫和铜层化学机械抛光液的铜化学机械抛光工艺，特别适用于使用固定研磨垫的化学机械抛光
5. Tungsten chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a tungsten layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad [P] . 美国专利： US6273786B1 . 2001-08-14

机译：使用固定研磨垫和钨层化学机械抛光液的钨化学机械抛光工艺，特别适用于使用固定研磨垫的化学机械抛光