纳米氧化硅在玻璃基片表面亚纳米级抛光中的应用

摘要

为满足先进电子产品对玻璃基片表面超光滑的要求,制备了一种纳米氧化硅抛光液,并研究了氧化硅粒子大小、抛光时间等参数对玻璃基片抛光后表面粗糙度、材料去除速率的影响.ZYGO形貌仪表明,采用纳米氧化硅抛光液,可以使玻璃表面粗糙度达到0.5 nm左右.AFM表明,抛光后的玻璃基片表面超光滑且无划痕等微观缺陷.