玻璃基片

摘要： 一种高透低辐射镀膜玻璃公开(公告)号:CN209292228U公开(公告)日:2019.08.23申请(专利权)人:天津北玻玻璃工业技术有限公司本实用新型涉及一种高透低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基片和镀在所述玻璃基片一个表面的膜层,所述膜层自玻璃基片的一侧由里向外依次包括:第一层保护层、第二层连接层、第三层功能层、第四层阻挡层、第五层连接层、第六层保护层、第七层耐氧化保护层。本实用新型主要通过在膜层中引入ZrOx材料作为保护层并通过各层选材制备高致密连接层、阻挡层来实现高透过低辐射率可钢产品的加工性。

摘要： 玻璃基片的表面清洁程度对镀膜十分重要,作者采用线性离子源在线清洗技术,对玻璃基片进行清洗处理。对比线性离子源清洗与传统超声清洗技术的清洗效果,分析离子源对玻璃基片的作用深度,以及对玻璃基片表面粗糙度与成分的改变。结果表明,线性离子源清洗能有效降低玻璃基片的缺陷密度、表面粗糙度及表面碳污染,有利于提高后续镀膜的质量"

摘要： 河北富晶特玻新材料科技有限公司硼硅玻璃生产线生产的硼硅防火玻璃基片,2019年2月22日通过了国家玻璃质量监督检验中心耐火3小时测试。耐火3小时是GB15763.1-2009《建筑用安全玻璃第1部分:防火玻璃》标准中非隔热型防火玻璃(C类)耐火极限的高要求。公司硼硅玻璃生产线由秦皇岛玻璃工业研究设计院有限公司设计,是世界上首条采用全电熔微浮法成型工艺取得商业化生产成功的生产线。

摘要： 2019年1月3日,''嫦娥四号''探测器自主着陆在月球背面南极,实现了人类探测器首次在月球背面软着陆,举国为之鼓舞和骄傲。此时此刻,秦皇岛星箭特种玻璃有限公司内一片欢腾,全体员工身着航天标志的公司制服,守在电视机旁,用热烈的掌声表达满怀的自豪与欣喜。

摘要： 近日,由秦皇岛玻璃工业研究设计院有限公司主体设计的硼硅玻璃生产线生产的硼硅防火玻璃基片通过了国家玻璃质量监督检验中心耐火3 h测试。耐火3 h是GB 15763.1—2 0 0 9《建筑用安全玻璃第1部分:防火玻璃》标准中非隔热型防火玻璃(C类)耐火极限的最高要求。

摘要： 以下拉法工艺制得的尺寸为40mm×40mm×0．08mm超薄柔性玻璃为基板，利用一步离子交换法在浓度为100％硝酸钾浴盐中强化超薄柔性玻璃，研究了不同温度制度下对超薄柔性玻璃的钢化效果，结果表明对于本次实验中的超薄柔性玻璃基片，在4500°C下具有最为经济的离子交换效率，在该温度下进行8h钾离子交换具有最高的表面应力强度，进行12h钾离子交换具有最佳的柔性效果，印证了超薄柔性玻璃经化学铜化后表面应力与弯曲强度的关系。

摘要： 乌克兰国家科学院强度研究所专家致力于优化玻璃制造技术。在制造玻璃基片时，需要满足较高透明度、传递无线电波能力、相应表面质量、给定尺寸和装饰性等要求。为了增加玻璃强度，通常需要经受机械加工、切割、研磨、抛光、不同等级电压离子交换硬化以及深蚀刻等过程。

摘要： 采用大气开放式金属有机化合物化学气相沉积方法(AP-MOCVD),以四异丙醇钛(TTIP)为原料,在不同的实验条件下在玻璃基片上制备TiO2薄膜.当气化室温度为140°C,基片温度为350°C时,玻璃基片上生长的薄膜XRD谱中只出现了锐钛矿相(200)晶面的衍射峰,表明此时薄膜高度取向.通过SEM观察高度取向的TiO2薄膜表面出现四边形的微结构.

摘要： 采用常压单源MOCVD法在玻璃基片上制备了CdS薄膜，并利用XRD、紫外-可见光谱及SEM对薄膜进行了结构及光学性能的分析。主要讨论了衬底温度及退火对薄膜结构、透光性能和光学带隙的影响。不同衬底温度退火后得到的CdS薄膜均为高度(002)择优取向的单一六方相结构且透光率较高，光学带隙接近块材。

摘要： 采用溶胶-凝胶法,在普通玻璃基片上成功制备了多孔纳米二氧化钛薄膜.用扫描电镜对薄膜的表面形貌进行了表征,同时利用XRD谱图对其晶型结构进行分析,结果表明,加水量、升温速度等因素对薄膜的质量都有影响.光催化实验表明:多孔纳米二氧化钛薄膜的催化效果最好,120min内甲基橙降解率可达到98﹪.

摘要： 应用磁控溅射技术的陶瓷基片和玻璃基片上分别制备了NiNbO和TiO光催化薄膜.利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、UV-VIS-NIR分光光度计等手段对薄膜的结构进行了分析,采用光催化降解染料罗丹明B溶液的方法表征了NiNbO和TiO薄膜的光催化性能.在溅射气压2Pa和沉积时间4h条件下,得到光催化性能很好的NiNbO薄膜.玻璃基片上NiNbO薄膜的光催化性能要明显优于陶瓷基片上该薄膜的光催化性能.

摘要： 本发明是，对含有55～70摩尔%的SiO2、13～23摩尔%的Al2O3、11～21摩尔%的碱金属氧化物(其中Li2O为10～20摩尔%、Na2O和K2O总量为0.1～3摩尔%)、0.1～4摩尔%的TiO2以及0.1～2摩尔%的ZrO2，同时上述各成分的合计含量为不少于95摩尔%，同时含有0～不足0.2摩尔%的BaO、0～不足0.1摩尔%的P2O5、0～不足0.3摩尔%的B2O3、0～不足0.1摩尔%的SnO2的玻璃陶瓷用母材玻璃进行热处理，使析出含有β-石英类固溶体的结晶相的玻璃陶瓷，该玻璃陶瓷具有低热膨胀性、在可见光区域的高透过性、低比重等特性。

摘要： 对具有导电性能的层(11)进行电化学蚀刻的方法，该层(11)是掺杂金属氧化物类型并且在玻璃类型的透明基片(10)上，该类型的透明基片(10)装备一可以在蚀刻之后被除去的掩模，该方法在于：将该层的至少一个蚀刻区域(13)与一导电溶液(20)接触，将一电极(30)浸入到该溶液(20)中并且将该电极(30)在离该区域(13)一距离(d)的对面设置，在该电极(30)和待蚀刻层(11)之间施加一电压(U)，其特征在于该电极具有一长形形状以便在该层的多个区域上沿该基片的宽度(l)进行蚀刻。

摘要： 本发明公开了一种玻璃过滤膜基片及使用该玻璃过滤膜基片的过滤设备，属于污水处理技术领域。该玻璃过滤膜基片至少有一个面为刻痕面，刻痕面上设有上下直通的刻痕，刻痕包括刻痕面上自上而下依次设有第一刻痕段、第二刻痕段和第三刻痕段。本发明还提供了使用该玻璃过滤膜基片的过滤设备。本发明的玻璃过滤膜基片以及使用该玻璃过滤膜基片的过滤设备的过滤膜的孔隙直通，反冲洗容易，不易堵塞，规避了现有膜堵塞和冲洗困难问题。本发明的玻璃过滤膜基片在水中寿命极长，有效解决了现有膜寿命短问题。同时解决了生化池建设成本高的问题和现有膜对膜格栅的依赖。

摘要： 本发明是,对含有55～70摩尔%的SiO2、13～23摩尔%的Al2O3、11～21摩尔%的碱金属氧化物(其中Li2O为10～20摩尔%、Na2O和K2O总量为0.1～3摩尔%)、0.1～4摩尔%的TiO2以及0.1～2摩尔%的ZrO2,同时上述各成分的合计含量为不少于95摩尔%,同时含有0～不足0.2摩尔%的BaO、0～不足0.1摩尔%的P2O5、0～不足0.3摩尔%的B2O3、0～不足0.1摩尔%的SnO2的玻璃陶瓷用母材玻璃进行热处理,使析出含有β－石英类固溶体的结晶相的玻璃陶瓷,该玻璃陶瓷具有低热膨胀性、在可见光区域的高透过性、低比重等特性。

摘要： 本实用新型公开了一种玻璃过滤膜基片及使用该玻璃过滤膜基片的过滤设备，属于污水处理技术领域。该玻璃过滤膜基片至少有一个面为刻痕面，刻痕面上设有上下直通的刻痕，刻痕包括刻痕面上自上而下依次设有第一刻痕段、第二刻痕段和第三刻痕段。本实用新型还提供了使用该玻璃过滤膜基片的过滤设备。本实用新型的玻璃过滤膜基片以及使用该玻璃过滤膜基片的过滤设备的过滤膜的孔隙直通，反冲洗容易，不易堵塞，规避了现有膜堵塞和冲洗困难问题。本实用新型的玻璃过滤膜基片在水中寿命极长，有效解决了现有膜寿命短问题。同时解决了生化池建设成本高的问题和现有膜对膜格栅的依赖。

摘要： 一种用于信息记录介质的化学增强的玻璃基片，在玻璃基片的外侧表面和内侧表面上通过化学增强形成增强层，而在信息记录层表面基本没有增强层。还提供用于信息记录介质的玻璃，这种玻璃不需要高精度抛光技术就具有优良的几何精度如平整度，并具有高强度。

摘要： 提供一种对用于磁记录介质的玻璃基片的边缘表面进行抛光的设备及制备用于磁记录介质的玻璃基片的方法，对要用作硬盘的基片的玻璃基片，不需要额外操作就能提高质量和产率。在用玻璃基片2制造硬盘的过程中，对玻璃基片外边缘表面要求算术平均粗糙度(Ra)最多为100nm，以这样的粗糙度，可以用磨石进行高产率的抛光。此外，因为可以进行这样的进行抛光，通过采用片处理，可提高产率。通过试样树脂构成的磨石4可以稳定加工边界，可以使单独玻璃基片的尺寸精度变化最小。树脂构成的磨石4是具有槽4A的成形磨石，形成的槽4A能同时抛光玻璃基片2的外边缘表面2A以及在该玻璃基片两面上的倒角2B和2C。提高试样如树脂磨石4这样的成形磨石，能够同时抛光玻璃基片2的外边缘表面2A及该玻璃基片的两面上的倒角2B和2C，因而进一步提高了产率和质量。

摘要： 公开了具有36×106Nm/kg以上的高比弹性模数或110GPa以上大的杨氏模量及700°C以上的高转变温度(高耐热性)的SiO2－Al2O3－RO体系(但,R是二价金属)的玻璃。这些玻璃可提供具有优秀表面平滑性(表面粗糙度Ra< 9埃)、而且强度大的玻璃基片。本发明的玻璃由于耐热性优异,所以,为提高磁膜特性可在基片不变形的情况下进行必要的热处理,由于平坦性优良,所以可使磁头低漂浮化即可达到高密度的记录,因此弹性模数及强度大,所以磁盘可达到薄型化,与此同时,也可避免磁盘被破损。

摘要： 本实用新型公开了一种玻璃基片的清理装置，其包括支架、第一毛刷筒和第二毛刷筒，其中，第一毛刷筒用于清理玻璃基片的一侧板面，且第一毛刷筒能够绕自身轴线转动地设置在支架上；第二毛刷筒用于清理玻璃基片的另一侧板面，且第二毛刷筒能够绕自身轴线转动地设置在支架上；上述第一毛刷筒靠近第二毛刷筒，且两者的轴线相互平行。该清理装置能够清理玻璃基片上粘附的杂质，避免研磨机的研磨材料受上述杂质的污染，提高研磨效果。本实用新型还提供一种玻璃基片清理研磨系统，其应用了上述清理装置，能够确保玻璃基片研磨效果良好。

摘要： 本实用新型属于玻璃真空镀膜设备领域。本实用新型的一种基片架的玻璃固定装置，固定于基片架的调节横杆上，每套玻璃基片固定结构包括于上端调节横杆上对称设置的2个弹性压条和于下端调节横杆上对应的1个弹性压片组成；该弹性压条包括一弧形的弹性条状体，该弹性条状体一端固定在调节横杆，该弹性条状体的另一端具有一个与该弹性条状体大致90°翻折设置的前挡片，以及与该前挡片连接且与弹性条状体同侧设置、但分开呈一定夹角的侧挡片；该弹性压片是侧面呈“N”字型的三弯折片。本实用新型的一种基片架，包括基片架的主架体，及上述的玻璃基片固定结构。本实用新型用于固定和传载玻璃基片，以进行玻璃真空镀膜作业。