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一种用于计算机硬盘基片抛光的多孔纳米氧化铝抛光液

摘要

本发明涉及一种用于计算机硬盘基片的抛光液,特别是一种可用于Ni-P镀敷的计算机硬盘基片抛光,属于计算机存储器硬盘制造及表面抛光技术领域。本发明的抛光液含有多孔纳米氧化铝磨料、氧化剂、分散剂、表面活性剂和水,其特点在于该抛光液含有多孔纳米氧化铝磨料。本发明的多孔纳米氧化铝抛光液组成及其重量百分比如下:多孔纳米氧化铝磨料1~10%;氧化剂1~6%;分散剂0.2~1.0%;表面活性剂0.1~1%;余重为水。采用本发明提供的抛光液对硬盘基片进行抛光,可降低基片表面的粗糙度。多孔纳米氧化铝的粒径为50~500nm,孔径为1~20nm;氧化剂为双氧水,分散剂为六偏磷酸钠,表面活性剂为十二烷基聚氧乙烯醚,水采用去离子水。

著录项

  • 公开/公告号CN102220087A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-10-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海大学;

    申请/专利号CN201110114788.5

  • 申请日2011-05-05

  • 分类号C09G1/02(20060101);

  • 代理机构上海上大专利事务所(普通合伙);

  • 代理人顾勇华

  • 地址 200444 上海市宝山区上大路99号

  • 入库时间 2023-12-18 03:30:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-03-12

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L21/304 申请公布日:20111019 申请日:20110505

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2011-11-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09G1/02 申请日:20110505

    实质审查的生效

  • 2011-10-19

    公开

    公开

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