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王庆伟;
河北工业大学;
机译:用于铜互连的Cu-Mg / SiO_2和Cu-Ru / SiO_2膜的自形成阻挡层特性
机译:GLSI铜互连CMP新型弱碱性浆料的稳定性
机译:用于铜互连的“ Ultrathin-Cu” / Ru(Ta)/ TaN衬里层堆叠的特性
机译:TTA-K作为抑制剂对Cu / Ru / TaN结构的抑制剂基于图案化晶片CMP的影响
机译:I.涉及(IV)族有机金属配合物的环丙烷形成的立体化学。二。由PPh(3)取代的羟基环戊二烯基氢化钌[2,5-Ph(2)-3,4-Tol(2)(eta(5)-C(4)COH)] Ru的化学计量较慢和较快的醛催化还原(CO)(PPh(3))H:一种高度化学选择性的催化剂,用于醛在酮上的氢化。
机译:Cu / Ru / MgO / Ta / Si中扩散阻挡层的结构稳定性
机译:ru钝化和掺杂对铜互连Ru-modiied tan的屏障和种子层性能的作用
机译:五核金钌团簇中的金属骨架排列。 (au3Ru3(micron3-s)(CO)8(pph3)3)和(au2Ru3(micron-H)(micron3-COme)(CO)9(pph3)2)的晶体结构
机译:回收钌(ru)和钌(Ru)合金沉积靶材的方法以及由再生钌(Ru)和钌(Ru)基合金粉末制成的靶材
机译:回收钌(Ru)和钌(Ru)合金沉积目标以及基于回收的钌(Ru)和钌(Ru)的合金粉末制成的目标的方法
机译:用于铜互连的金属阻挡层,该阻挡层在金属阻挡层或铜/金属阻挡层界面中掺入了硅
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