机译:ru钝化与掺杂对铜互连Ru修饰棕褐色屏障和种子层性能的作用
机译:ru钝化和ru掺杂epsilon-tan表面作为铜互连的组合屏障和衬垫材料:第一个原则研究
机译:带有TaN中间层的Ru薄膜对铜金属镀层的阻挡性能提高
机译:双层TaN / Ta势垒对半导体制造中铜种子和电镀铜工艺的影响
机译:用于ULSI互连的难熔过渡金属基铜扩散阻挡层的原子层沉积和性能。
机译:纳米晶种层在玻璃上掺铌TiO2薄膜增强性能中的作用
机译:ru钝化和ru掺杂ε-棕褐色表面作为铜互连的组合屏障和衬垫材料:第一个原理研究