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A Dopant-Dependent Band Gap Narrowing Model Application for Bipolar Device Simulation

机译:掺杂剂相关的带隙窄化模型在双极器件仿真中的应用

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摘要

We present a new band gap narrowing model which considers the semiconductor material and the dopant species for arbitrary finite temperatures. This unified treatment is especially useful for accurate device simulation. As a particular example we studied with our two-dimensional device simulator MINIMOS-NT the electrical behavior of a graded composition Si/SiGe HBT using a hydrody-namic transport model.
机译:我们提出了一个新的带隙变窄模型,该模型考虑了任意有限温度下的半导体材料和掺杂剂种类。这种统一的处理对于精确的设备仿真特别有用。作为一个特定的示例,我们使用二维设备模拟器MINIMOS-NT使用水动力传输模型研究了梯度成分Si / SiGe HBT的电学行为。

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