Institute for Microelectronics, TU Vienna Gusshausstr. 27-29, A-1040 Vienna, Austria;
Institute for Microelectronics, TU Vienna Gusshausstr. 27-29, A-1040 Vienna, Austria;
Institute for Microelectronics, TU Vienna Gusshausstr. 27-29, A-1040 Vienna, Austria;
Institute for Microelectronics, TU Vienna Gusshausstr. 27-29, A-1040 Vienna, Austria;
机译:掺杂剂依赖性低场迁移率和带隙变窄对双极器件性能的影响
机译:改进的带隙变窄模型在掺磷硅发射极复合性能数值模拟中的应用
机译:直接芳基化聚合方法,用于合成窄带间隙环戊二噻吩基缀合聚合物及其在太阳能电池装置中的应用
机译:双极设备仿真的掺杂剂依赖带隙缩小模型应用
机译:开发用于光电应用的窄间隙半导体材料和器件。
机译:元素红磷修饰的高可见光响应窄带隙TiO2纳米粒子用于光催化和光电化学应用
机译:双极器件仿真中依赖于掺杂剂的带隙窄化模型应用
机译:窄带间隙InGasb,用于电子器件的Inalassb合金。