EUV mask inspection; defect inspection; actinic; coherent diffraction imaging; EUV pellicle;
机译:通过EUV图案晶圆的全芯片光学检测来检测可印刷的EUV掩模吸收层缺陷和缺陷添加物
机译:使用EUV光发射电子显微镜检查EUVL掩模的空白缺陷和图案化掩模
机译:EUV掩模检测系统适合更细的芯片图案
机译:使用基于ArF的检查工具对EUV掩模进行贯穿膜的缺陷检查
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:基于全非接触式蒙版的尺寸敏感艺术品的全息检查
机译:无透镜euv面膜检查变形图案