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机译:无透镜euv面膜检查变形图案
Iacopo Mochi; Hyun-su Kim; Atoosa Dejkameh; Ricarda Nebling; Kazazis Dimitrios; Uldis Locans; Tao Shen; Yasin Ekinci;
机译:通过EUV图案晶圆的全芯片光学检测来检测可印刷的EUV掩模吸收层缺陷和缺陷添加物
机译:使用EUV光发射电子显微镜检查EUVL掩模的空白缺陷和图案化掩模
机译:EUV掩模检测系统适合更细的芯片图案
机译:无晶体EUV面膜检查变形图案
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:通过非化学放大光刻胶的EUV定向极性切换对复杂纳米特征的高度有序阵列进行构图
机译:EUV光刻的幻影图案掩模缺陷检测
机译:EUV高通量检测系统,可对图案化的EUV面膜,面膜毛坯和晶圆进行缺陷检测
机译:EUV高通量检查系统,用于在图案化的EUV掩模,掩模坯料和晶圆上进行缺陷检测
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