Conductivity; Implants; Temperature distribution; Temperature measurement; Temperature sensors; IR wafer temperature sensing; elastomers; heat transfer; high power implantation;
机译:注入能量对低剂量注入氧片分离微结构演变的影响
机译:高剂量,低剂量和内部热氧化法(通过注入氧晶片)中掩埋氧化物层中有序结构的比较
机译:宽剂量范围内注入Er和氧离子并在不同温度条件下进行热处理的硅层的电性能
机译:在高剂量离子注入期间,弹性体控制≈50℃的晶片温度
机译:用于计算机实验,温度控制系统管理和剂量响应预测的统计方法。
机译:卡莫司汀片植入治疗新诊断的胶质母细胞瘤的长期结果:法国多中心队列的对照倾向匹配分析
机译:离子质量,植入剂量和晶圆温度对末端缺陷的影响
机译:通过高剂量Co注入在sImOX晶片中形成Cosi(sub 2)。