机译:极紫外光刻中用于阴离子结合的化学放大抗蚀剂中酸生成的建模和模拟
机译:傅立叶变换红外光谱法表征用于X射线光刻的化学放大抗蚀剂
机译:聚(4-羟基苯乙烯)作为化学增强型抗蚀剂模型聚合物的极紫外光刻技术的溶解行为研究
机译:ARF光刻化学放大抗蚀剂的表征和建模
机译:用于下一代光刻的新型化学放大抗蚀剂的开发和高级表征
机译:通过使用非化学放大的抗蚀剂和曝光后烘烤来制造具有改善的线边缘粗糙度的高分辨率掩模
机译:使用Silsesquoxane进行化学扩增的Si抗蚀剂,用于ARF光刻(休闲)及其在双层抗蚀剂过程中的应用。
机译:用于arF光刻的酸催化单层抗蚀剂