机译:非熔融激光尖峰退火形成超浅结及其在65 nm节点中互补金属氧化物半导体器件中的应用
机译:用于低热预算应用的共注入硅超浅结的形成
机译:通过一种新颖的形成技术制造的高性能Ge超浅结,该技术采用旋涂掺杂剂和激光退火技术,适用于10 nm以下的技术应用
机译:在40nm节点逻辑器件中用于超浅结形成和n-MOSFET应变应用的分子碳注入技术
机译:纳米器件的器件建模和电路性能评估:超过45 nm节点的硅技术和碳纳米管场效应晶体管。
机译:医疗保健中的计算机应用。门诊计算机系统。植入式设备:心脏起搏器:设计计算机辅助诊所以应对起搏器技术的发展
机译:InGaAs n-MOSFET的源/漏工程,用于逻辑器件应用