Gadolinium oxide; high permittivity dielectric; high pressure sputtering; plasma oxidation;
机译:硅上高压溅射沉积金属metallic薄膜的原位等离子体氧化工艺优化
机译:无需界面处理的高压溅射法在磷化铟上沉积的高介电常数氧化g
机译:原位等离子体氧化高压溅射沉积氧化oxide的电学表征
机译:高压溅射沉积在硅上的金属g作为高介电常数电介质的等离子体氧化
机译:沉积的氧化硅的电,化学和热行为:PECVD,ECR和溅射膜之间的比较。
机译:单结GaAs太阳能电池上溅射的二氧化硅氧化铟锡和二氧化硅/氧化铟锡抗反射涂层的电学和光学特性
机译:硅上高压溅射沉积金属metallic薄膜的原位等离子体氧化工艺优化
机译:喷射气相沉积(JVD)氧化硅/氮化物/氧化物薄膜(ONO)薄膜作为siC和GaN器件的栅极电介质的研究。