EUVL mask; mask defect; mask inspection; 199nm; die-to-die; reflected illumination;
机译:使用空白检查,图案化掩模检查和晶圆检查来评估极端紫外线掩模缺陷
机译:具有已编程缺陷的标准晶圆,可评估用于7纳米及以上节点的300毫米晶圆制造中的图案检查工具
机译:开发具有编程缺陷的标准样品,以评估7纳米及更小的节点的图案检查工具
机译:使用199MM检测光学评估EUVL-MASK模式缺陷检查
机译:使用激光技术进行倒装芯片焊点检查的系统实现,建模和缺陷模式识别。
机译:甲状腺手术中的喉罩气道检查和光纤气管检查:一种及时识别需要气管切开术的气管软化的方法。
机译:使用相邻图案比较和边界扩展算法进行AOI(自动光学检测)系统缺陷检测图案TFT-LCD面板的缺陷