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灰阶掩模的缺陷检查方法及装置及其制造方法、光掩模的缺陷检查方法、图案转印方法

摘要

提供一种灰阶掩模的缺陷检查方法,能够正确判定具有形成了在掩模使用时的曝光条件下的析像限度以下的细微图案的区域的灰阶掩模的半透光部有无缺陷,能够提高缺陷检查的可靠性。灰阶掩模具有遮光部、透光部和半透光部,灰阶掩模的半透光部具有形成了在灰阶掩模使用时曝光的曝光条件下的析像限度以下的细微遮光图案的区域,其中具有:扫描半透光部得到透过率信号的工序;及将透过率信号与预先设定的半透光部的透过率许可值进行比较,判定半透光部有无缺陷的判定工序。在得到透过率信号的工序中,利用规定的光源照射半透光部,利用拍摄装置拍摄在透过半透光部的透过光束的作用下从正聚焦位置以规定量散焦后的图像,从该拍摄图像得到透过率信号。

著录项

  • 公开/公告号CN101256350A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-09-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HOYA株式会社;

    申请/专利号CN200810081531.2

  • 发明设计人 中西胜彦;

    申请日2008-02-28

  • 分类号G03F1/00;G03F7/20;

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人李贵亮

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-17 20:41:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-11-14

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F1/00 申请公布日:20080903 申请日:20080228

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2010-03-03

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-09-03

    公开

    公开

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