法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-11-14
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F1/00 申请公布日:20080903 申请日:20080228
发明专利申请公布后的视为撤回
2010-03-03
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-09-03
公开
公开
机译: 图案缺陷检查方法,用于检查图案缺陷的测试图案基材,图案缺陷检查装置,制造光掩模的方法以及用于显示装置的基材的制造方法
机译: 图案缺陷检查方法,图案缺陷检查测试图案基板,图案缺陷检查装置,光掩模制造方法和显示装置基板制造方法
机译: 图案缺陷检查方法,用于检查图案缺陷的测试图案基材,图案缺陷检查装置,制造光掩模的方法以及用于显示装置的基材的制造方法