光掩模缺陷修补技术

摘要

基于芯片图形特征尺寸越来越小,图形越来越密集,缺陷很难修补。阐述掩模在制作过程中缺陷形成的原因,对掩模缺陷进行分类,掩模修补的方法,包括激光气化法、局部曝光法、离子束修补。