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杨长华;
无锡中微掩模电子有限公司 江苏214135;
集成电路制造; 光掩模; 缺陷修补; 离子束修补;
机译:Selete的EULE掩模掩模缺陷减少技术扩展到EUVL掩模的光掩模缺陷检查和修复技术即使掩模尺寸为100 nm,也可以实现高精度的检查图像对比度
机译:扫描型开发技术,可提高半导体光掩模的精度:支持先进半导体器件制造的光掩模图案的精度更高
机译:扫描型开发技术提高了半导体的光掩模精度:高精度的光掩模图案,支撑尖端半导体器件的制造
机译:亚稳态原子光刻的掩模技术:光掩模和物理掩模
机译:用于铬光掩模的非接触式临界尺寸计量传感器,采用低温共烧陶瓷技术实现。
机译:使用软光掩模在亚微米级进行接触光刻
机译:探究水工混凝土建筑物缺陷修补技术
机译:用于自动IC光掩模检测系统的实验评估的测试掩模。
机译:使用分离曝光技术的光掩模,制造光掩模的方法以及使用该方法制造光掩模的设备
机译:-具有预对准键的光掩模和具有该光掩模的光刻技术
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