光掩模基板的制造方法、光掩模基板、光掩模的制造方法和光掩模

摘要

本发明提供光掩模基板的制造方法、光掩模基板、光掩模的制造方法和光掩模，目的在于减少光掩模的缺陷的产生，提高光掩模制造的生产效率及品质。一种光掩模基板的制造方法，上述光掩模基板在透明基板(1)上具有遮光膜(3)，其用于通过至少将上述遮光膜(3)图案化而形成包含透光部和遮光部的转印用图案从而制成光掩模，其中，遮光膜(3)包含分别具有光密度OD为1.5以上的遮光性的上层(3b)和下层(3a)，上述光掩模基板的制造方法具有下述工序：在透明基板(1)上形成下层(3a)的工序；对下层(3a)的表面实施第1异物除去处理的工序；和在下层(3a)上形成上层(3b)的工序。