大面积光掩模的制造

机译：使用现有光掩模制造能力制造用于EUV光刻的自对准交替相移光掩模的简单方法

机译：扫描型开发技术，可提高半导体光掩模的精度：支持先进半导体器件制造的光掩模图案的精度更高

机译：扫描型开发技术提高了半导体的光掩模精度：高精度的光掩模图案，支撑尖端半导体器件的制造

机译：先进的飞秒DUV激光掩模修复工具，适用于大面积光掩模

机译：针对大面积增材制造工艺优化的掩模图像投影

机译：铁氟龙/ SiO2双层钝化层可提高采用新型双光掩模自对准工艺制造的氧化物TFT的电气可靠性

机译：用于软光刻的大面积印模，模具和适形光掩模的制造

机译：用于制造高效多晶硅太阳能电池的简单单光掩模工艺

机译：光掩模基板，光掩模坯料，光掩模，光掩模基板的制造方法，光掩模的制造方法以及显示装置的制造方法

机译：制造光掩模坯料，光掩模坯料的方法，制造光掩模，光掩模和光掩模金属靶的方法

机译：光掩模空白，制造光掩模的方法，光掩模，制造光掩模的方法，光掩模的中间物以及转移图案的方法