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Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X Apr 16-18, 2003 Yokohama, Japan
Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X Apr 16-18, 2003 Yokohama, Japan
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1.
Qualification of Alternating PSM: Defect Inspection Analysis in Com-parison to Wafer Printing Results
机译:
替代PSM的资格:与晶圆印刷结果比较的缺陷检查分析
作者:
Wolfgang Dettmann
;
Jan Heumann
;
Tanja Hagner
;
Roderick Koehle
;
Stephen Rahn
;
Martin Verbeek
;
Mardjan Zarrabian
;
Jens Weckesser
;
Mario Hennig
;
Nicolo Morgana
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X Apr 16-18, 2003 Yokohama, Japan》
|
2003年
2.
Practical Approach for AAPSM Image Imbalance Correction for Sub-100nm Lithography
机译:
100nm以下光刻的AAPSM图像失衡校正的实用方法
作者:
Hung Lin Cho
;
Shu Yi Lin
;
Frank Hsieh
;
Armen Kroyan
;
Hua-yu Liu
;
Jason Huang
;
Shu-Hao Hsu
;
I. H. Huang
;
Benjamin Szu-Min Lin
;
Kuei-Chun Hung
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X Apr 16-18, 2003 Yokohama, Japan》
|
2003年
关键词:
alternating-aperture PSM;
mask topography effects;
image intensity imbalance;
3.
Recent Lithographic Results from LEEPL
机译:
LEEPL的最新光刻结果
作者:
Shigeru Moriya
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X Apr 16-18, 2003 Yokohama, Japan》
|
2003年
4.
Resist Heating Dependence on Subfield Scheduling in 50kV Electron Beam Maskmaking
机译:
50kV电子束掩膜制作中取决于子场调度的电阻加热依赖性
作者:
Sergey Babin
;
Andrew B. Kahng
;
Ion I. Mandoiu
;
Swamy Muddu
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X Apr 16-18, 2003 Yokohama, Japan》
|
2003年
5.
Reticle Inspection Using an Image Filter Method
机译:
使用图像过滤器方法进行光罩检查
作者:
Tomoyuki Okada
;
Masahiko Minemura
;
Kazuhiko Takahashi
;
Mitsuo Saakurai
;
Satoshi Akutagawa
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X Apr 16-18, 2003 Yokohama, Japan》
|
2003年
关键词:
image filter;
simulation;
printability;
optical intensity;
6.
Effective Placement of Chips on a Shuttle Mask
机译:
有效地将芯片放置在穿梭面罩上
作者:
Shih-Ying Chen
;
Eric C. Lynn
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X Apr 16-18, 2003 Yokohama, Japan》
|
2003年
关键词:
shuttle mask;
packing;
bottom-left fill algorithm;
7.
A modified model of drying process of a polymer liquid film taking effects of latent heat and heat conductivity into account
机译:
考虑潜热和热导率影响的聚合物液膜干燥过程的改进模型
作者:
Hiroyuki Kagami
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X Apr 16-18, 2003 Yokohama, Japan》
|
2003年
8.
The Study on Characteristics and Control of Haze Contamination induced by Photochemical Reaction
机译:
光化学反应引起的雾霾污染的特征及控制研究
作者:
Sung-Jae Han
;
Sang-Yong Yu
;
Moon-Gyu Sung
;
Yong-Hoon Kim
;
Hee-Sun Yoon
;
Jung-Min Sohn
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X Apr 16-18, 2003 Yokohama, Japan》
|
2003年
关键词:
haze;
photocontamination;
photomask;
cleaning;
9.
Using OPC to optimize for image slope and improve process window
机译:
使用OPC优化图像斜率并改善处理窗口
作者:
Nick Cobb
;
Yuri Granik
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X Apr 16-18, 2003 Yokohama, Japan》
|
2003年
关键词:
matrix;
MEEF;
OPC;
process window;
10.
Technological Capability and Future Enhanced Performance of HL-7000M
机译:
HL-7000M的技术能力和未来增强的性能
作者:
Masaomi Tanaka
;
Suyo Asai
;
Hajime Kawano
;
Ken Iizumi
;
Kazuyoshi Oonuki
;
Hiroyoshi Takahashi
;
Hidetoshi Sato
;
Rikio Tomiyoshi
;
Kazui Mizuno
;
Genya Matsuoka
;
Hiroya Ohta
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X Apr 16-18, 2003 Yokohama, Japan》
|
2003年
关键词:
electron beam lithography;
reticle;
critical dimension;
CD uniformity;
linearity;
image placement;
OPC;
storage area network;
11.
The Comparative Evaluation of Positive and Negative Chemically Amplified Resist Characteristics for 90 nm Node Photomask Production
机译:
90 nm节点光掩模生产的正负化学放大抗蚀剂特性的比较评估
作者:
Woo-Gun Jeong
;
Dong-Il Park
;
Eui-Sang Park
;
Soon-Kyu Seo
;
Hyuk-Joo Kwon
;
Jin-Min Kim
;
Sung-Mo Jung
;
Sang-Soo Choi
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X Apr 16-18, 2003 Yokohama, Japan》
|
2003年
关键词:
positive CAR;
negative CAR;
proximity effect correction;
fogging effect;
defects;
pattern fidelity;
12.
EPL Data Conversion System
机译:
EPL数据转换系统
作者:
Masahiro Shoji
;
Nobuyasu Horiuchi
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X Apr 16-18, 2003 Yokohama, Japan》
|
2003年
关键词:
NGL;
EPL;
EB stepper;
data conversion;
13.
LEEPL Data Conversion System
机译:
LEEPL数据转换系统
作者:
Masahiro Shoji
;
Nobuyasu Horiuchi
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X Apr 16-18, 2003 Yokohama, Japan》
|
2003年
关键词:
NGL;
LEEPL;
COSMOS;
data conversion;
14.
Development of attenuating PSM shifter for F_2 and high transmission ArF lithography
机译:
用于F_2和高透射ArF光刻的衰减PSM移位器的研制。
作者:
Osamu NOZAWA
;
Yuki SHIOTA
;
Hideaki MITSUI
;
Toshiyuki SUZUKI
;
Yasushi OHKUBO
;
Masao USHIDA
;
Satoshi YUSA
;
Toshiharu NISHIMURA
;
Kenji NOGUCHI
;
Shiho SASAKI
;
Hiroshi MOHRI
;
Naoya HAYASHI
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X Apr 16-18, 2003 Yokohama, Japan》
|
2003年
关键词:
F_2 lithography;
ArF lithography;
high transmittance;
bi-layer;
TCL;
15.
Negative chemically amplified resist in making mask for a logic device with high pattern density
机译:
负化学放大抗蚀剂,用于制作具有高图案密度的逻辑器件的掩模
作者:
Kyung-Han Nam
;
Hyun-Joon Cho
;
Seung-Hee Baek
;
Seong-Ho Jeong
;
Chang-Nam Ahn
;
Hong-Seok Kim
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X Apr 16-18, 2003 Yokohama, Japan》
|
2003年
关键词:
chemically amplified(CA)resists;
negative caresist;
fogging effect;
high-acceleration voltage e-beam writing tool;
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