机译:具有已编程缺陷的标准晶圆,可评估用于7纳米及以上节点的300毫米晶圆制造中的图案检查工具
Evolving Nano Process Infrastructure Development Center, Inc., Tsukuba-shi, Japan;
Evolving Nano Process Infrastructure Development Center, Inc., Tsukuba-shi, Japan;
Evolving Nano Process Infrastructure Development Center, Inc., Tsukuba-shi, Japan;
lithography; electron beams; programed defects; defect detection; etching; hydrogen silsesquioxane;
机译:开发具有编程缺陷的标准样品,以评估7纳米及更小的节点的图案检查工具
机译:使用空白检查,图案化掩模检查和晶圆检查来评估极端紫外线掩模缺陷
机译:通过EUV图案晶圆的全芯片光学检测来检测可印刷的EUV掩模吸收层缺陷和缺陷添加物
机译:用于检测工具性能评估的标准图案化晶圆
机译:图案化晶圆中暗场缺陷检测的电磁建模。
机译:一种基于玻璃 - 硅复合晶片的电容MEMS加速度计的新型制造方法
机译:对300毫米晶圆厂中手动FOUP处理的评估