chemically amplified resist; next generation lithography; membrane; mask; critical dimension uniformity; e-beam lithography; SCALPEL; PREVAIL; x-ray;
机译:通过使用具有非化学放大抗蚀剂和曝光后烘烤的可变形状电子束光刻技术来制造高分辨率掩模
机译:随机缺陷产生对酸放大的量子效率和有效化学反应半径的影响,该化学反应使用极端紫外光刻技术进行化学放大的抗蚀剂工艺进行脱保护
机译:使用化学放大的抗蚀剂工艺的电子束光刻技术制造7纳米四分之一间距(7纳米间距和21纳米线宽)的线和间隔图案的理论研究:I.灵敏度和化学梯度之间的关系
机译:对下一代光刻掩模制造的高级化学放大抗蚀剂的评价
机译:用于下一代光刻的新型化学放大抗蚀剂的开发和高级表征
机译:通过使用非化学放大的抗蚀剂和曝光后烘烤来制造具有改善的线边缘粗糙度的高分辨率掩模
机译:基于模拟的257 nm激光掩模制造中非化学放大抗蚀剂的配方