机译：通过使用具有非化学放大抗蚀剂和曝光后烘烤的可变形状电子束光刻技术来制造高分辨率掩模
机译：基于高分辨率技术的光掩模制造的特性，该技术具有非化学放大的抗蚀剂和曝光后烘烤
机译：193nm顶表面成像工艺的非化学放大抗蚀剂和化学放大抗蚀剂的光刻性能
机译：基于仿真的257 nm激光掩模制造中非化学放大抗蚀剂的配方
机译：探索基于溶出抑制剂的非化学放大抗蚀剂，用于193 nm光刻。
机译：通过使用非化学放大的抗蚀剂和曝光后烘烤来制造具有改善的线边缘粗糙度的高分辨率掩模
机译：使用257nm光学图案发生器表征用于光掩模制造的非化学放大抗蚀剂
