Department of Electrical Engineering and Solid State Institute, Technion-Isracl Institute of Technology, Haifa 32000, Israel;
机译:通过快速热氧化,快速热退火和HF浸渍工艺表征多孔硅光伏器件
机译:快速热处理后退火对MOCVD-Cu / TiN / Si结构特性的影响
机译:快速热处理后退火对MOCVD-Cu / TiN / Si结构特性的影响
机译:基于INP的设备的快速热MOCVD处理
机译:对快速热处理,PECVD和丝网印刷的基本了解和集成,可用于经济高效的高效硅光伏器件。
机译:飞行中的微流控技术:便宜的快速制造热层压微流控设备用于实时成像和多细胞系统的多峰扰动
机译:快速热退火Al / SiNx中的低界面陷阱密度:H / InP金属-绝缘体-半导体器件
机译:应变层半导体器件的快速热处理。