Lawrence Livermore National Laboratory, 7000 East Avenue, Livermore, CA 94550;
multilayer optics; reflectivity; thickness uniformity; extreme ultraviolet (EUV) lithography;
机译:在不同真空环境下,高通量极紫外光照射下,极紫外光刻光学多层反射镜反射率的非线性行为
机译:使用工程测试台架set-2光学元件在Advanced Light Source静态微场曝光站进行低于70 nm的极紫外光刻
机译:演示三层镜物镜在超紫外线显微镜下的30 nm空间分辨率:通过观察光刻掩模进行成像测试
机译:用于α级极端紫外光刻系统的多层镀膜光学器件
机译:钼/硅多层镜中的应力演化,用于极端紫外光刻。
机译:迈向极紫外光刻的高精度反射计
机译:<标题>具有70-nm分辨率的极端紫外光刻工具的多层光学器件 title>