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EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources
EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources
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1.
Search for effects on neutron transmission due to multiple reflection by glass capillary walls
机译:
寻找由于玻璃毛细管壁的多次反射而对中子传输产生的影响
作者:
R.E. Benenson
;
X-Ray Optical Systems
;
National Institute of Stand ards
;
Technology
;
Albany
;
NY
;
USA
;
Huaiyu H. Chen-Mayer
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA
;
J.W. Lynn
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
2.
Smoothing of mirror substrates by thin-film deposition
机译:
通过薄膜沉积使镜面基板光滑
作者:
Eberhard A. Spiller
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Sherry L. Baker
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Enrique Parra
;
Univ. of Maryland/College Park
;
College Park
;
MD
;
USA
;
Charles Tarrio
;
National Institute of S
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
3.
Performance comparisons for the ILL neutron spin echo spectrometer IN15 in its standard and focusing mirror configurations
机译:
ILL中子自旋回波谱仪IN15在其标准镜和聚焦镜配置下的性能比较
作者:
John R. Copley
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA
;
Carmel Hayes
;
Institut Laue-Langevin
;
Surrey Sutton
;
United Kingdom
;
Colette Lartigue
;
Univ. Joseph Fourier
;
St Martin d Heres Cedex
;
France.
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
4.
Optical constants of beryllium from photoabsorption measurements for x-ray optics a
机译:
通过X射线光学器件的光吸收测量得出的铍的光学常数
作者:
Regina Soufli
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Sasa Bajt
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Eric M. Gullikson
;
Lawrence Berkeley National Lab.
;
Berkeley
;
CA
;
USA.
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
5.
Microfocusing VLS-grating-based beamline for advanced microscopy
机译:
基于微聚焦VLS光栅的光束线,用于高级显微镜
作者:
Daniele Cocco
;
Elletra Synchrotron Light Source
;
Basovizza Trieste
;
Italy
;
Marino Marsi
;
Elletra Synchrotron Light Source
;
Basovizza Trieste
;
Italy
;
Maya Kiskinova
;
Elletra Synchrotron Light Source
;
Basovizza Trieste
;
Italy
;
Kevin C. Prince
;
Elletra Synch
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
6.
Liquid-target laser-plasma sources for EUV and x-ray lithography
机译:
用于EUV和X射线光刻的液体目标激光等离子体源
作者:
Hans M. Hertz
;
Royal Institute of Technology
;
Stockholm
;
Sweden
;
Magnus Berglund
;
Royal Institute of Technology
;
Stockholm
;
Sweden
;
Bjorn A. Hansson
;
Royal Institute of Technology
;
Stockholm
;
Sweden
;
Lars Rymell
;
Royal Institute of Technology
;
Stockholm
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
7.
New measurements with a perfect crystal cavity for neutrons
机译:
具有适合中子的完美晶体腔的新测量
作者:
Martin R. Jaekel
;
Atominstitut der Oesterreichischen Universitaeten
;
Rutherford Appleton Lab.
;
Oxon
;
United Kingdom
;
Colin J. Carlile
;
Rutherford Appleton Lab.
;
Didcot
;
Oxfordshire
;
United Kingdom
;
Erwin Jericha
;
Technische Univ. Wien
;
Wien
;
Austria
;
Dagma
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
8.
EUV spectroscopy of ultrafast capillary discharges
机译:
超快速毛细管放电的EUV光谱
作者:
Larry V. Knight
;
Brigham Young Univ.
;
Provo
;
UT
;
USA
;
R.S. Turley
;
Brigham Young Univ.
;
Provo
;
UT
;
USA
;
Chris Crawford
;
Brigham Young Univ.
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Derek Hullinger
;
Brigham Young Univ.
;
Provo
;
UT
;
USA
;
Alex P. Shevelko
;
P.N. Lebedev Physical
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
9.
Curved-crystal three-axis neutron spectrometry with position-sensitive detection
机译:
位置敏感检测的弯曲晶体三轴中子光谱仪
作者:
Mihai Popovici
;
Univ. of Missouri/Columbia
;
Columbia
;
MO
;
USA
;
Alexandru Stoica
;
Unvi. of Missouri/Columbia
;
Bucharest
;
Romania
;
William B. Yelon
;
Univ. of Missouri/Columbia
;
Columbia
;
MO
;
USA
;
Ronald Berliner
;
Univ. of Missouri/Columbia
;
Columbia
;
MO
;
US
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
10.
Development of a supermirror Doppler shifter for quasi-continuousultracold neutron generation at pulsed neutron sources,
机译:
开发用于在脉冲中子源上产生准连续超中子超谱的超镜多普勒频移器,
作者:
Masahiko Utsuro
;
Kyoto Univ.
;
Osaka
;
Japan
;
Kazuhiko Soyama
;
Japan Atomic Energy Research Institute
;
Ibaraki Naka-gun
;
Japan
;
Nobuyasu Tajima
;
Kyoto Univ.
;
Osaka
;
Japan
;
Kiyoshi Okumura
;
Kyoto Univ.
;
Osaka
;
Japan.
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
11.
Development of soft x-ray multilayer mirrors for a wavelength of 3 nm
机译:
研发3纳米波长的软X射线多层反射镜
作者:
Kiwamu Sakano
;
Tohoku Univ.
;
Sendai
;
Japan
;
Masaki Yamamoto
;
Tohoku Univ.
;
Sendai
;
Japan.
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
12.
Diffraction geometry optimization with polycapillary x-ray optics
机译:
使用多毛细管X射线光学器件优化衍射几何
作者:
Walter M. Gibson
;
SUNY/Albany
;
Voorheesville
;
NY
;
USA
;
Carolyn A. MacDonald
;
SUNY/Albany
;
Albany
;
NY
;
USA
;
Johannes B. Ullrich
;
X-Ray Optical Systems
;
Inc.
;
Albany
;
NY
;
USA.
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
13.
Toward a high-average-power and debris-free soft x-ray source for microlithography pumped by a long-pulse excimer laser
机译:
迈向由长脉冲准分子激光器泵浦的用于微光刻的高平均功率,无碎屑的软X射线源
作者:
Sarah Bollanti
;
ENEA Frascati
;
Frascati
;
Italy
;
Paolo Di Lazzaro
;
ENEA Frascati
;
Frascati
;
Rome
;
Italy
;
Francesco Flora
;
ENEA Frascati
;
Frascati
;
Italy
;
Tommaso Letardi
;
ENEA Frascati
;
Calenzano
;
Italy
;
Alessandro Marinai
;
ENEA Frascati
;
Frascati
;
Italy
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
14.
Refractive x-ray focusing with modified phonograph records
机译:
带有改进的留声机记录的折射X射线聚焦
作者:
Bjoern Cederstroem
;
Royal Institute of Technology
;
Stockholm
;
Sweden
;
Robert N. Cahn
;
Lawrence Berkeley National Lab.
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Mats Danielsson
;
Royal Institute of Technology
;
Stockholm
;
Sweden
;
Mats Lundqvist
;
Royal Institute of Technology
;
Sto
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
15.
Review of x-ray collimators for x-ray proximity lithography
机译:
用于X射线近距离光刻的X射线准直仪的综述
作者:
Stephen M. Lane
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Troy W. Barbee
;
Jr.
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Stanley J. Mrowka
;
Oxford Research Group
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Juan R. Maldonado
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
16.
Dual-function EUV multilayer mirrors for the IMAGE mission
机译:
用于IMAGE任务的双功能EUV多层镜
作者:
David D. Allred
;
Brigham Young Univ.
;
Provo
;
UT
;
USA
;
R.S. Turley
;
Brigham Young Univ.
;
Provo
;
UT
;
USA
;
Matthew B. Squires
;
Brigham Young Univ.
;
Provo
;
UT
;
USA.
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
17.
Numerical simulation of multiple reflection in the stacked supermirror blades of a Doppler-shifting ultracold neutron generator
机译:
多普勒频移超冷中子发生器叠层超反射叶片中多重反射的数值模拟
作者:
Author(s): Nobuyasu Tajima Kyoto Univ. Osaka Japan
;
Masahiko Utsuro Kyoto Univ. Osaka Japan
;
Kazuhiko Soyama Japan Atomic Energy Research Institute Ibaraki Naka-gun Japan.
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
18.
Recent development of doubly curved crystal focusing optics and their a
机译:
双曲晶体聚焦光学器件及其应用的最新进展
作者:
ZeWu Chen
;
X-Ray Optical Systems Inc.
;
Albany
;
NY
;
USA.
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
19.
Recent advances in EUV phase-shifting point diffraction interferometry
机译:
EUV相移点衍射干涉仪的最新进展
作者:
Patrick Naulleau
;
Lawrence Berkeley National Lab.
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Kenneth A. Goldberg
;
Lawrence Berkeley National Lab.
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Sang H. Lee
;
Lawrence Berkeley National Lab.
;
Univ. of Californ ia/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Chang-Hasnain C.
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
20.
Testing of glancing incidence mirrors using sampled profile measurements
机译:
使用采样轮廓测量测试掠射入射镜
作者:
Eugene L. Church
;
Brookhaven National Lab.
;
Morristown
;
NJ
;
USA
;
Peter Z. Takacs
;
Brookhaven National Lab.
;
Upton
;
NY
;
USA.
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
21.
Progress in the development of three-aspherical mirror optics for EUVL
机译:
EUVL的三非球面镜光学系统的开发进展
作者:
Hiroo Kinoshita
;
Himeji Institute of Technology
;
Ako-gun Hyogo
;
Japan
;
Takeo Watanabe
;
Himeji Institute of Technology
;
Ako-gun Hyogo
;
Japan
;
Daniel J. Bajuk
;
Silicon Valley Group
;
Inc.
;
Richmond
;
CA
;
USA
;
Jay Daniel
;
Silicon Valley Group
;
Inc.
;
Richmond
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
22.
Polycapillary collimator for laser-generated plasma source x-ray lithography
机译:
用于激光等离子体源X射线光刻的多毛细管准直仪
作者:
ZeWu Chen
;
X-Ray Optical Systems Inc.
;
Albany
;
NY
;
USA
;
Russell Youngman
;
X-Ray Optical Systems Inc.
;
Albany
;
NY
;
USA
;
Tom Bievenue
;
X-Ray Optical Systems Inc.
;
Albany
;
NY
;
USA
;
Qi-Fan Xiao
;
X-Ray Optical Systems Inc.
;
Albany
;
NY
;
USA
;
I. C. Edmond Turcu
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
23.
Potential of polycapillary optics for hard x-ray medical imaging a
机译:
多毛细管光学器件在硬X射线医学成像中的潜力a
作者:
Lei Wang
;
SUNY/Albany
;
Albany
;
NY
;
USA
;
Walter M. Gibson
;
SUNY/Albany
;
Voorheesville
;
NY
;
USA
;
Carolyn A. MacDonald
;
SUNY/Albany
;
Albany
;
NY
;
USA.
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
24.
Optical constants of sputtered U and a-Si at 30.4 and 58.4 nm
机译:
溅射的U和a-Si在30.4和58.4 nm处的光学常数
作者:
Matthew B. Squires
;
Brigham Young Univ.
;
Provo
;
UT
;
USA
;
David D. Allred
;
Brigham Young Univ.
;
Provo
;
UT
;
USA
;
R.S. Turley
;
Brigham Young Univ.
;
Provo
;
UT
;
USA.
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
25.
Numerical simulation of multiple reflection in the stacked supermirrorblades of a Doppler-shifting ultracold neutron generator,
机译:
多普勒频移超冷中子发生器叠层超反射叶片中多重反射的数值模拟,
作者:
Nobuyasu Tajima
;
Kyoto Univ.
;
Osaka
;
Japan
;
Masahiko Utsuro
;
Kyoto Univ.
;
Osaka
;
Japan
;
Kazuhiko Soyama
;
Japan Atomic Energy Research Institute
;
Ibaraki Naka-gun
;
Japan.
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
26.
Novel condenser for EUV lithography ring-field projection optics
机译:
用于EUV光刻环形场投影光学器件的新型聚光镜
作者:
Henry N. Chapman
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Keith A. Nugent
;
Univ. of Melbourne
;
Parkville
;
Australia.
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
27.
Matching bent crystals to high-brilliance sources
机译:
使弯曲的晶体与高亮度光源匹配
作者:
Mihai Popovici
;
Univ. of Missouri/Columbia
;
Columbia
;
MO
;
USA
;
Alexandru Stoica
;
Univ. of Missouri/Columbia
;
Bucharest
;
Romania.
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
28.
Multilayer coated optics for an alpha-class extreme ultraviolet lithography system
机译:
用于α级极端紫外光刻系统的多层镀膜光学器件
作者:
Claude Montcalm
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
R.F. Grabner
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Russell M. Hudyma
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
San Ramon
;
CA
;
USA
;
Mark A. Schmidt
;
Lawrence Livermore Nationa
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
29.
Laterally graded multilayer optics for x-ray analysis
机译:
用于X射线分析的横向渐变多层光学器件
作者:
Manfred R. Schuster
;
Siemens AG
;
Munchen
;
Germany
;
H.Goebel
;
Siemens AG
;
Munchen
;
Germany
;
L.Bruegemann
;
Bruker AXS GmbH
;
Karlsruhe
;
Germany
;
D.Bahr
;
Bruker AXS GmbH
;
Karlsruhe
;
Germany
;
F.Burgaezy
;
Bruker AXS GmbH
;
Karlsruhe
;
Germany
;
C.Michaelsen
;
GKSS
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
30.
Lifetime studies of Mo/Si and Mo/Be multilayer coatings for extreme ultraviolet lithography
机译:
用于极端紫外光刻的Mo / Si和Mo / Be多层涂层的寿命研究
作者:
Marco Wedowski
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Sasa Bajt
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
James A. Folta
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Eric M. Gullikson
;
Lawrence Berkeley National Lab.
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
31.
High-power source and illumination system for extreme ultraviolet lithography
机译:
大功率光源和照明系统,用于极紫外光刻
作者:
Glenn D. Kubiak
;
Sandia National Labs.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Luis J. Bernardez
;
II
;
Sandia National Labs.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Kevin D. Krenz
;
Sandia National Labs.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
William C. Replogle
;
Sandia National Labs.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Willia
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
32.
High-uniformity collimator for x-ray proximity lithography
机译:
用于X射线近接光刻的高均匀度准直仪
作者:
Webster C. Cash
;
Xmetrics Inc.
;
Univ. of Colorado/Boulder
;
Boulder
;
CO
;
USA.
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
33.
Experimental investigation of beryllium-based multilayer coatings for extreme ultraviolet lithography
机译:
铍基多层涂层用于极端紫外光刻的实验研究
作者:
Sasa Bajt
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Ricke D. Behymer
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Paul B. Mirkarimi
;
Lawrence Livermore National Lab.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Claude Montcalm
;
Lawrence Livermore National
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
34.
Experimental test of the de Broglie wave packet nature of the neutron
机译:
中子的德布罗意波包性质的实验测试
作者:
Masahiko Utsuro
;
Kyoto Univ.
;
Osaka
;
Japan
;
Vladimir K. Ignatovich
;
Frank Lab. of Neutron Physics/Joint Institute for Nuc lear Physics
;
Dubna Moscow Region
;
Russia
;
Peter W. Geltenbort
;
Institute Laue-Langevin
;
Grenoble Cedex 9
;
France
;
Th. Brenner
;
Insti
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
35.
Development of the neutron phase contrast imaging technique and its a
机译:
中子相衬成像技术的发展及其应用
作者:
David L. Jacobson
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA
;
Mohammed Arif
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA
;
Luke Bergmann
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Du ke Univ.
;
Gaithersburg
;
MD
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
36.
Characterization of multifiber polycapillary x-ray collimating optics
机译:
多纤维多毛细管X射线准直光学器件的表征
作者:
Sushil D. Padiyar
;
SUNY/Albany
;
Albany
;
NY
;
USA
;
Hui Wang
;
SUNY/Albany
;
Albany
;
NY
;
USA
;
Mikhail V. Gubarev
;
SUNY/Albany
;
Huntsville
;
AL
;
USA
;
Walter M. Gibson
;
SUNY/Albany
;
Voorheesville
;
NY
;
USA
;
Carolyn A. MacDonald
;
SUNY/Albany
;
Albany
;
NY
;
USA.
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
37.
Characterization and optimization of a laser-produced x-ray source with a gas puff target
机译:
带有气团靶的激光X射线源的表征和优化
作者:
Henryk Fiedorowicz
;
Military Univ. of Technology
;
Warsaw 49
;
Poland
;
Andrzej Bartnik
;
Military Univ. of Technology
;
Warsaw 49
;
Poland
;
Roman Jarocki
;
Military Univ. of Technology
;
Warsaw 49
;
Poland
;
Rafal Rakowski
;
Military Univ. of Technology
;
Warsaw
;
Po
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
38.
Control of Mo/Si multilayers for soft x-ray performance
机译:
控制Mo / Si多层以实现柔和的X射线性能
作者:
Michael D. Kriese
;
Osmic
;
Inc.
;
Troy
;
MI
;
USA
;
Gary Fournier
;
Osmic
;
Inc.
;
Troy
;
MI
;
USA
;
James Rodriguez
;
Osmic
;
Inc.
;
Troy
;
MI
;
USA
;
Yuriy Y. Platonov
;
Osmic
;
Inc.
;
Troy
;
MI
;
USA.
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
39.
Large-field high-resolution x-ray monochromatic microscope based on spherical crystals and high-repetition-rate laser-produced plasmas
机译:
基于球形晶体和高重复率激光产生等离子体的大视野高分辨率x射线单色显微镜
作者:
Author(s): Tatiana A. Pikuz VNIIFTRI Moscow Region Russia
;
Anatoly Y. Faenov VNIIFTRI Moscow Region Russia
;
Moshe Fraenkel Hebrew Univ. of Jerusalem Yaune Israel
;
Arie Zigler Hebrew Univ. of Jerusalem Jerusalem Israel
;
Francesco Flora ENEA Fr
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
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1999年
40.
High-power x-ray point source for next-generation lithography
机译:
适用于下一代光刻的高功率X射线点源
作者:
Author(s): I. C. Edmond Turcu JMAR Technologies Inc. San Diego CA USA
;
Richard A. Forber JMAR Technologies Inc. San Diego CA USA
;
Robert K. Grygier JMAR Technologies Inc. San Diego CA USA
;
Harry Rieger JMAR Technologies Inc. San Diego C
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
|
1999年
41.
Development of a supermirror Doppler shifter for quasi-continuous ultracold neutron generation at pulsed neutron sources
机译:
用于脉冲中子源准连续超冷中子生成的超镜多普勒频移器的开发
作者:
Author(s): Masahiko Utsuro Kyoto Univ. Osaka Japan
;
Kazuhiko Soyama Japan Atomic Energy Research Institute Ibaraki Naka-gun Japan
;
Nobuyasu Tajima Kyoto Univ. Osaka Japan
;
Kiyoshi Okumura Kyoto Univ. Osaka Japan.
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
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1999年
42.
Neutron multilayer structures for fundamental experiments in UCN optics
机译:
用于UCN光学基础实验的中子多层结构
作者:
Author(s): Alexander I. Frank Frank Lab. of Neutron Physics/Joint Institute for Nuc lear Research Dubna Russia
;
Sergey V. Balashov Russian Research Ctr. Kurchatov Institute Moscow Russia
;
Victor I. Bodnarchuk Frank Lab. of Neutron Physics/Joint Ins
会议名称:
《EUV, X-Ray, and Neutron Optics and Sources》
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1999年
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