Department of Chemistry, School of Molecular Science (BK 21) Center for Advanced Functional Polymers, Korea Advanced Institute of Science Technology, 373-1 Guseong-dong, Yuseong-gu, Daejeon, 305-701, Korea;
nanomolecular resist; adamantane; cholate; 193-nm lithography;
机译:用于193 nm光刻的分辨率提高材料,其包含2-羟基苄醇和聚乙烯醇,且具有均匀的抗蚀剂图案收缩率
机译:用于193 nm光刻的分辨率提高材料,其包含2-羟基苄醇和聚乙烯醇,且具有均匀的抗蚀剂图案收缩率
机译:开发用于193 nm干法和浸没式光刻的新型抗蚀剂材料
机译:基于金刚烷的分子玻璃抗蚀剂,用于193 nm光刻
机译:电子束光刻光刻胶的研制与应用。
机译:酸性响应的金刚烷 - 芯两亲嵌段聚合物作为药物递送的平台
机译:193-NM光刻的分辨率增强材料,包括2-羟基苄醇和具有均匀抗蚀剂图案收缩的聚(乙烯醇)
机译:193-Nm光刻的全干抗蚀剂工艺