公开/公告号CN101390015A
专利类型发明专利
公开/公告日2009-03-18
原文格式PDF
申请/专利号CN200680052992.6
发明设计人 田中真治;克里斯托弗·K·奥伯;
申请日2006-02-16
分类号G03C1/73;G03F7/20;G03F7/30;
代理机构北京市柳沈律师事务所;
代理人巫肖南
地址 美国纽约州
入库时间 2023-12-17 21:36:28
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-02-29
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03C1/73 公开日:20090318 申请日:20060216
发明专利申请公布后的视为撤回
2009-05-13
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-03-18
公开
公开
机译: 基于金刚烷的分子玻璃光刻胶的光刻工艺小于200nm
机译: 200纳米以下光刻技术中基于金刚烷的分子玻璃光致抗蚀剂
机译: 可聚合的金刚烷衍生物,大分子化合物,用于光致抗蚀剂的树脂组合物以及制备半导体的方法