用于光刻的高分辨力离轴掩模研究

摘要

该研究中，将离轴照明与相移掩模技术结合起来，在掩模上同时实现两种功能，可较大程度提高光启程分辨力，实验表明，在数值孔径０．４２，ｉ线曝光波长下，可将光刻分辨力从０．８微米提高到０．５微米。