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韩安云; 王育中; 王维军; 张 倩; 田振文; 樊照田; 陈宝钦; 崔 铮;
信息产业部电子第十三研究所;
中国科学院微电子中心;
英国卢瑟福国家实验室微结构研究中心;
光学光刻; 移相掩模; T形栅; M-PEL;
机译:使用40kV形电子束光刻技术的用于深X射线光刻的高精度掩模制造
机译:平移对称交替移相掩模光栅标记在光刻投影像差线性测量模型中的应用
机译:JEOL,EB光刻系统,用于掩模光刻技术向双图案化技术发展生产率和良率提高
机译:具有四分之一微米光刻技术的具有自对准移相器的新型移相掩模
机译:用于半球成像器的a-硅:氢TFT被动像素传感器的无掩模激光刻蚀光刻技术。
机译:基于掩模的一步法光刻技术用于制造3D悬浮结构
机译:用于亚100nm通道长度晶体管的X射线光刻技术,采用常规光刻,各向异性蚀刻和斜阴影制作的掩模
机译:移相掩模相移角,光刻工艺和移相掩模的检测方法
机译:移相掩模,用于移相掩模的空白以及制造移相掩模的方法
机译:半成品型移相掩模,形成半透明部件的材料,用于生产半成品型移相掩模,以及半成品型移相掩模的生产
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