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Wafer for evaluating machining ability of wafer peripheral portion and method for evaluating machining capability of wafer periphery

机译:用于评估晶片周边部分的加工能力的晶片以及用于评估晶片周边的加工能力的方法

摘要

In order to measure the in-plane distribution of the wafer peripheral processing capability, the wafer is used for evaluating the machining ability of the outer periphery of the wafer. The processing quantity of each part of the part is measured, and the in-plane distribution of the machining ability of the outer part is grasped and evaluated.
机译:为了测量晶片周边处理能力的面内分布,晶片被用于评估晶片外围的加工能力。测量零件的每个部分的加工量,并掌握和评估外部零件的加工能力的面内分布。

著录项

  • 公开/公告号JPWO01/048802A1

    专利类型

  • 公开/公告日2003-06-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 信越半導体株式会社;

    申请/专利号JP特願2001-548423(P2001-548423)

  • 发明设计人 橋本 高広;水島 一寿;

    申请日2000-12-22

  • 分类号H01L21/304;H01L21/02;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-22 00:22:35

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