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WAFER FOR EVALUATING MACHINABILITY OF PERIPHERY OF WAFER AND METHOD FOR EVALUATING MACHINABILITY OF PERIPHERY OF WAFER

机译:评估晶圆周边的可加工性的晶圆和评估晶圆周边的可加工性的方法

摘要

Distribution of machining ability in periphery surface is grasped and evaluated through measuring the machined depth at several positions of the peripheral portion by use of a wafer for the evaluation of the ability of machining the peripheral portion thereof. IMAGE
机译:通过使用晶片测量周边部分的几个位置处的加工深度来掌握和评估周边表面中的加工能力的分布,以评估其周边部分的加工能力。 <图像>

著录项

  • 公开/公告号KR100750607B1

    专利类型

  • 公开/公告日2007-08-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20017010978

  • 申请日2001-08-27

  • 分类号H01L21/304;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 20:31:31

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