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Methods and Apparatus for FinFET SRAM Arrays in Integrated Circuits

机译:集成电路中FinFET SRAM阵列的方法和设备

摘要

Methods and apparatus for providing single finFET and multiple finFET SRAM arrays on a single integrated circuit are provided. A first single port SRAM array of a plurality of first bit cells is described, each first bit cell having a y pitch Y1 and an X pitch X1, the ratio of X1 to Y1 being greater than or equal to 2, each bit cell further having single fin finFET transistors to form a 6T SRAM cell and a first voltage control circuit; and a second single port SRAM array of a plurality of second bit cells, each second bit cell having a y pitch Y2 and an X pitch X2, the ratio of X2 to Y2 being greater than or equal to 3, each of the plurality of second bit cells comprising a 6T SRAM cell wherein the ratio of X2 to X1 is greater than about 1.1.
机译:提供了用于在单个集成电路上提供单个finFET和多个finFET SRAM阵列的方法和装置。描述了由多个第一位单元组成的第一单端口SRAM阵列,每个第一位单元具有y间距Y 1 和X间距X 1 ,X的比率 1 至Y 1 大于或等于2,每个位单元还具有单个鳍式finFET晶体管以形成6T SRAM单元和第一电压控制电路;多个第二位单元的第二单端口SRAM阵列,每个第二位单元具有y节距Y 2 和X节距X 2 ,X之比B> 2 至Y 2 大于或等于3,多个第二位单元中的每一个包括6T SRAM单元,其中X 2 X 1 大于约1.1。

著录项

  • 公开/公告号US2014153321A1

    专利类型

  • 公开/公告日2014-06-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY LTD.;

    申请/专利号US201414177521

  • 发明设计人 JHON-JHY LIAW;

    申请日2014-02-11

  • 分类号G11C11/412;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 16:06:43

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