机译:有源射线敏感或辐射敏感的树脂组合物,有源射线敏感或辐射敏感的膜,具有有源射线敏感或辐射敏感的膜的空白,图案形成方法以及制造电子设备的方法
公开/公告号JP6482611B2
专利类型
公开/公告日2019-03-13
原文格式PDF
申请/专利权人 富士フイルム株式会社;
申请/专利号JP20170139150
申请日2017-07-18
分类号G03F7/004;G03F7/038;G03F7/20;G03F1/20;C08F212/14;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 12:21:09