首页> 中国专利> 光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物,其形成的光化射线敏感或辐射敏感膜以及使用该组合物形成图案的方法

光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物,其形成的光化射线敏感或辐射敏感膜以及使用该组合物形成图案的方法

摘要

本发明提供一种光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物,其具有优异的灵敏度、粗糙度特性和曝光宽容度,以及一种使用其形成图案的方法。所述组合物包含(A)当与酸作用时分解从而增加其在碱性显影剂中溶解度的树脂,以及(B)当曝光于光化射线或辐射时分解从而产生酸的化合物,所述化合物为下述通式(1‑1)的任何化合物。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-03-15

    授权

    授权

  • 2014-02-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/004 申请日:20111222

    实质审查的生效

  • 2012-10-17

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号