法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-03-15
授权
授权
2014-02-05
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/004 申请日:20111222
实质审查的生效
2012-10-17
公开
公开
机译: 光化射线敏感或辐射敏感的树脂组合物,光化射线敏感或辐射敏感的膜,具有敏感或辐射敏感膜的掩模坯料,图案形成方法和制造光掩模的方法
机译: 光化射线敏感或辐射敏感的树脂组合物,用于光化射线敏感或辐射敏感的树脂组合物的树脂的制造方法,光化射线敏感或辐射敏感的膜,图案形成方法以及电子设备的制造方法
机译: 光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物,光化射线敏感或辐射敏感膜,图案形成方法,光掩模,电子器件制造方法和化合物