摘要:采用直流磁控溅射方法,以Ar/N<,2>作为放电气体(Ar流量为定值,改变N<,2>流量),在玻璃衬底上沉积了Fe-N薄膜.利用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XRS)分析了不同氮气流量下薄膜的结构、成分.研究表明,薄膜中的氮含量、薄膜的结构与氮气流量有很大的关系.当氮气流量比(N<,2>/N<,2>+Ar)大于或等于30﹪时,得到单相γ″-FeN薄膜;当氮气流量比小于10﹪时,薄膜是由α-Fe,α′-Fe<,8>N,FeN<,0.056>和α″-Fe<,16>N<,2>混合相所组成;而氮气流量比等于10﹪时,则得到γ′-Fe<,4>N和ε-Fe<,3>N两相化合物.采用超导量子干涉仪(SQUIDS)对所制备的样品进行了磁性性能分析,结果表明,α″-Fe<,16>N<,2>是具有高饱和磁化强度(M<,s>)的化合物相,含该相的薄膜的M<,s>可达246emu/g,高于纯铁的饱和磁化强度;γ′-Fe<,4>N和ε-Fe<,3>N化合物的M<,s>则较低.氮气流量比大于或等于30﹪是室温下获得单相无磁性化合物γ′-FeN的最佳条件.