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阵列基板制造用的光掩模、阵列基板及其制造方法

摘要

本发明提供一种使用相同的光掩模由母玻璃基板制作多片阵列基板的情况下可以自由地形成或切断连接相邻的曝光区域的配线;即使是在由相同的母玻璃基板制造不同大小的阵列基板的情况下也可以利用相同的检查用探针装置进行检查的光掩模、阵列基板及其制造方法。解决手段是,构成上述光掩模以使得:在阵列基板的上端部形成上部上下走向配线,在下端部形成下部上下走向配线;以及在所述下部上下走向配线的左侧或右侧,形成向所述阵列基板下端侧的边界U转弯的“向边界U转弯部”和再次向所述阵列基板中央部U转弯的“向中央部U转弯部”。

著录项

  • 公开/公告号CN101206393B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-01-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 龙腾光电(控股)有限公司;

    申请/专利号CN200710305033.7

  • 发明设计人 川野英郎;砂山英树;

    申请日2007-12-19

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人臧霁晨

  • 地址 英属维尔京群岛

  • 入库时间 2022-08-23 09:08:40

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-01-11

    授权

    授权

  • 2009-08-12

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-06-25

    公开

    公开

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