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氮化镓晶体、同质外延氮化镓基器件及其制造方法

摘要

一种器件,其包括至少一个设置在由氮化镓构成的单晶衬底上的外延半导体层,该氮化镓衬底的位错密度小于大约104cm-2、并且基本上没有倾斜边界并且氧杂质水平低于1019cm-3。该电子装置可以是比如发光二极管(LED)和激光二极管(LD)应用的发光应用形式,并且可以是这样的器件:GaN基晶体管、整流器、晶闸管和共射共基开关等。还提供了一种形成由氮化镓构成的单晶衬底的方法,该氮化镓衬底的位错密度小于大约104cm-2、并且基本上没有倾斜边界以及氧杂质水平低于1019cm-3,以及同质外延形成至少一个在衬底上的半导体层以及电子器件。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-01-21

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L21/20 登记生效日:20200102 变更前: 变更后: 申请日:20031222

    专利申请权、专利权的转移

  • 2019-09-27

    专利实施许可合同备案的生效 IPC(主分类):H01L21/20 合同备案号:X2019990000072 让与人:天空公司 受让人:SLT科技公司 发明名称:氮化镓晶体、同质外延氮化镓基器件及其制造方法 申请公布日:20060315 授权公告日:20090401 许可种类:独占许可 备案日期:20190903 申请日:20031222

    专利实施许可合同备案的生效、变更及注销

  • 2019-09-27

    专利实施许可合同备案的生效 IPC(主分类):H01L 21/20 合同备案号:X2019990000072 让与人:天空公司 受让人:SLT科技公司 发明名称:氮化镓晶体、同质外延氮化镓基器件及其制造方法 申请公布日:20060315 授权公告日:20090401 许可种类:独占许可 备案日期:20190903 申请日:20031222

    专利实施许可合同备案的生效、变更及注销

  • 2017-04-12

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L21/20 登记生效日:20170324 变更前: 变更后: 申请日:20031222

    专利申请权、专利权的转移

  • 2017-04-12

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L21/20 登记生效日:20170324 变更前: 变更后: 申请日:20031222

    专利申请权、专利权的转移

  • 2017-04-12

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L 21/20 登记生效日:20170324 变更前: 变更后: 申请日:20031222

    专利申请权、专利权的转移

  • 2009-04-01

    授权

    授权

  • 2009-04-01

    授权

    授权

  • 2009-04-01

    授权

    授权

  • 2008-09-03

    专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移) 变更前: 变更后: 登记生效日:20080801 申请日:20031222

    专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移)

  • 2008-09-03

    专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移) 变更前: 变更后: 登记生效日:20080801 申请日:20031222

    专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移)

  • 2008-09-03

    专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移) 变更前: 变更后: 登记生效日:20080801 申请日:20031222

    专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移)

  • 2006-05-10

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-05-10

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-05-10

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-03-15

    公开

    公开

  • 2006-03-15

    公开

    公开

  • 2006-03-15

    公开

    公开

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