首页> 中国专利> Ⅲ族氮化物半导体晶体的制造方法、基于氮化镓的化合物半导体的制造方法、基于氮化镓的化合物半导体、基于氮化镓的化合物半导体发光器件、以及使用半导体发光器件的光源

Ⅲ族氮化物半导体晶体的制造方法、基于氮化镓的化合物半导体的制造方法、基于氮化镓的化合物半导体、基于氮化镓的化合物半导体发光器件、以及使用半导体发光器件的光源

摘要

一种III族氮化物半导体晶体的制造方法,包括在含有氮源和没有金属材料的气氛中在衬底表面上淀积III族金属微粒的步骤,在已淀积微粒的衬底表面上生长III族氮化物半导体晶体的步骤。

著录项

  • 公开/公告号CN100341115C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2007-10-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 昭和电工株式会社;

    申请/专利号CN01802460.2

  • 申请日2001-08-17

  • 分类号H01L21/205(20060101);H01L33/00(20060101);

  • 代理机构11247 北京市中咨律师事务所;

  • 代理人于静;杨晓光

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2022-08-23 08:59:58

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-02-27

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L 21/205 变更前: 变更后: 登记生效日:20130123 申请日:20010817

    专利申请权、专利权的转移

  • 2007-10-03

    授权

    授权

  • 2005-07-20

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-05-18

    公开

    公开

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