法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-12-18
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 27/12 授权公告日:20090318 终止日期:20121025 申请日:20061025
专利权的终止
2009-03-18
授权
授权
2007-08-22
实质审查的生效
实质审查的生效
2007-06-27
公开
公开
机译: 通过制造方法制造的具有双栅极结构的SOI器件和具有双栅极结构的SOI器件的制造方法
机译: 具有SOI结构的晶片,该SOI结构具有掩埋绝缘多层结构和半导体器件结构
机译: 包括SOI结构的形成步骤的半导体器件制造方法和具有SOI结构的半导体器件